序列修飾符設計用于自動合成。羧基-dT 在脫保護過程中水解，可以通過標準肽偶聯(lián)或通過中間體 N-羥基琥珀酰亞胺 (NHS) 酯直接偶聯(lián)到含有伯氨基的分子上。在寡核苷酸合成過程中，可以分別添加氨基修飾劑 dA、氨基修飾劑 dC、N2-氨基修飾劑 dG 和兩種氨基修飾劑 dT 產(chǎn)品以代替 dA、dC、dG 和 dT 殘基。相應的氨基修飾劑支持物可以代替它們各自的脫氧核苷支持物。去保護后，C6 類似物上的伯胺通過總共有 7 -10 個原子的間隔臂與寡核苷酸分開，并且可以被標記或連接到酶上。